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来源:yiyi
时间:2018-10-1 0:00:31

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  掩膜质量检验
  掩膜及其组成单元盼全面检验必须包括图形单元阵列的中心对准和阵列
的旋转检验。全面检验还包括对掩膜标题、尺寸标记和掩膜版方向标记的
检验。在简单的www.w88981.com,优德官方网站中,可用一些特殊的模板来检验阵列旋转;在自动
验验设备中,可以使用汁赞:饥软件进行检测。上述的各类缺陷(阵列中心
对准和旋转缺陷、各类标题标记缺陷等)统称为粗缺陷,在掩膜版投入圆片
生产线以前就应该发现。


  沟槽光谱测量法
  在扫描分光光度计中利用沟槽光谱法可测量薄膜厚度。无论是透明的或
不透明的薄膜都可放入分光光度计,观察它们产生的条纹像,从而得到测
量结果。在透明基板(玻璃上的光刻胶图像)的情况下,可见到一套特别的
互补条纹。沟槽光谱的名称与条纹的名称是同义的。现在这种方法常用来
测量玻璃上的电介质的厚度。
    市场上已经可提供利用沟槽光潜法的测量仪器,一般都与微处理机配
套。在配有计算机的测量设备中,扫描光束可识别反射光谱,并在小于15s
的短时间内得出校准后的薄膜厚度值。这种仪器可以测量薄到500nm的薄膜
,测量精度为5%。
    上面所述的所有的光学的和机械的测量方法,在半导体工业中,都可
对1“m范围的薄膜进行厚度测量。某些方法是新的,例如棱镜耦合法,需
要进一步加以完善,才能在生产中实用。上述的所有方法,测量精度都在
百分之几以内,因此可适用于超大规模集成电路工艺。

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